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HS Code / TARIC / Zolltarifnummer 详情
3923109010 - 光掩模或晶圆盒:由抗静电材料或具有特殊静电放电和除气性能的混合热塑性塑料制成,具有无孔、耐磨或抗冲击表面,配有专门设计的保护光掩模或晶圆免受表面或外观损伤的固定系统,带或不带垫圈密封,用于光刻或其他半导体生产中存放光掩模或晶圆
可直接申报无补充计量单位税率参考: 0.000%官方 TARIC 查询
商品定义与语言版本
光掩模或晶圆盒:由抗静电材料或具有特殊静电放电和除气性能的混合热塑性塑料制成,具有无孔、耐磨或抗冲击表面,配有专门设计的保护光掩模或晶圆免受表面或外观损伤的固定系统,带或不带垫圈密封,用于光刻或其他半导体生产中存放光掩模或晶圆
建议:先确认商品材质、用途与成品形态,再结合下方层级树与可申报候选做最终判断。
ZH
光掩模或晶圆盒:由抗静电材料或具有特殊静电放电和除气性能的混合热塑性塑料制成,具有无孔、耐磨或抗冲击表面,配有专门设计的保护光掩模或晶圆免受表面或外观损伤的固定系统,带或不带垫圈密封,用于光刻或其他半导体生产中存放光掩模或晶圆
DE
Fotomasken- oder Siliciumscheibenbehälter -|bestehend aus antistatischen Materialien oder Thermoplastmischungen mit speziellen antistatischen und Ausgasung verhindernden Eigenschaften, -|mit nichtporöser, abrieb- oder schlagfester Oberfläche, -|mit einer speziellen Haltevorrichtung zum Schutz der Fotomaske oder Siliciumscheibe vor Oberflächenbeschädigungen und kosmetischen Schäden, -|mit oder ohne Dichtung, von der bei der Fotolithografie oder anderer Halbleitertechnik zur Aufbewahrung von Fotomasken oder Sililciumscheiben verwendeten Art
EN
Photomask or wafer compacts: -|consisting of antistatic materials or blended thermoplastics proving special electrostatic discharge (ESD) and outgassing properties, -|having non porous, abrasion resistant or impact resistant surface properties, -|fitted with a specially designed retainer system that protects the photomask or wafers from surface or cosmetic damage and -|with or without a gasket seal, of a kind used in the photolithography or other semiconductor production to house photomasks or wafers
申报判断提示
该编码已是可直接申报的候选叶子节点,适合继续进入国际件报关表单。
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贸易限制与措施
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措施类型
当前值
备注/生效信息
参考进口税率
0.000%
生效:Thu Jan 01
法规/法律依据
Regulation 2605/25
-
补充计量单位要求
无需
有效期:Sun Jan 01 - -
已导入的 TARIC 措施明细
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同级编码
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Fotomasken- oder Siliciumscheibenbehälter -|bestehend aus antistatischen Materialien oder Thermoplastmischungen mit spez
变更类型: new源语言: EN+DE
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